光刻胶研发工程师

光刻胶研发工程师职业所在的行业是半导体制造业，这个行业的技术更新非常快，所以需要从业者具备较高的专业能力和技能熟练度。在不限、0-1年和1-3年这些经验区间内，大部分从业者还处于学习和成长的阶段，专业能力和技能熟练度相对较低，所以占比较少。在3-5年这个经验区间内，从业者已经有了一定的经验和专业技能，能够独立承担任务并解决问题，因此占比最高。在5-10年和10年以上这两个经验区间内，从业者的占比相对较少，因为这些从业者已经有了非常丰富的经验和专业技能，他们更可能成为团队的领导者或者专家顾问。

专业能力要求

最高分项是工艺流程控制，因为掌握良好的工艺流程控制能力可以确保光刻胶的制作过程稳定，从而提高产品的质量和效率。最低分项是数据分析与建模，这一项能力在光刻胶研发工程师的工作中较为次要，不是必须的技能。

通用素质要求

最高分项是团队协作能力，合格的从业者能够与团队成员密切合作，协调工作，共同完成项目。而最低分项是项目管理能力，合格的从业者需要能够有效地管理项目，包括制定计划、安排资源、监督进度和质量等方面。

性格要求

光刻胶研发工程师需要候选人具备较高的规律性（规律型，C）倾向，因为该职业需要准确地进行研发和实验，要求候选人具备细致和严谨的特点。规律型个性通常喜欢有条不紊地完成任务，注重细节和准确性，这种性格特点对于研发工程师来说至关重要。

知识要求

最高分项是化学材料知识，这是因为光刻胶是化学材料，候选人需要具备深入的化学知识来研发和改进光刻胶。其次是微电子制程知识，因为光刻胶是微电子制程中的重要组成部分。最低分项是统计分析技术，这可能是因为对于光刻胶研发工程师来说，统计分析技术并不是最核心的知识点，而是在具体的实验过程中需要掌握的一项辅助技能。